Marangoni-Trockner mit Hot N₂
Ausführung mit beheiztem Stickstoff. Die Prozessparameter werden auf Substrat und Spülprozess abgestimmt.
WAFER- & SUBSTRATTROCKNUNG
Trocknungssysteme für Wafer und Substrate
Kontrollierte Trocknungsprozesse als entscheidender Schritt nach der Nassreinigung.
Bedarfsgerechtes Trocknungskonzept
Verfahren und Anlagengröße passend zum Produktionsbedarf.
Restflüssigkeit entfernen
Trocknung abgestimmt auf Oberfläche und Substratmaterial.
Integration in Prozesslinien
Handling und Schnittstellen auf den Nassprozess abgestimmt.
Definierte Prozessbedingungen
Trocknungsparameter passend zu den Prozessanforderungen.
Substratschonende Prozessführung
Aufnahme und Ablauf berücksichtigen empfindliche Substrate.
ANLAGEN IM ÜBERBLICK
Trocknung nach dem Nassprozess
Nach dem nasschemischen Prozess ist die Trocknung für die Oberflächenqualität entscheidend. Die Auswahl geeigneter Verfahren richtet sich nach Substrat, Restflüssigkeit, Durchsatz und Reinheitsanforderung.
Zur Prozessplattform qSPRINT
Für Wafer, Substrate und Komponenten
Eine Anlage – viele Möglichkeiten.
Trocknungsprozesse abgestimmt auf Oberflächen, Substratmaterialien und Handling.
Materialien & Substrate entdeckenPassende Produkte & Systeme
Ergänzende Lösungen für Ihren Nassprozess.
Typische Anwendungen
Von Forschung und Entwicklung bis zur industriellen Fertigung.
Wafer nach Nassreinigung
Trocknung nach Reinigung und Spülung.
Halbleiterprozesse
Trocknungsprozesse für Halbleiterwafer.
Substrattrocknung
Entfernung von Restflüssigkeit auf Substraten.
Forschung
Entwicklung und Validierung von Verfahren.
Pilot- und Serienfertigung
Einbindung in Produktionsabläufe.
Trocknungsverfahren im Überblick
Marangoni-Trockner mit Ausheben
Die Substrate werden kontrolliert aus dem Spülbad gehoben. Der Marangoni-Effekt unterstützt das Abziehen des Flüssigkeitsfilms.
Warmlufttrockner
Temperatur und Luftführung werden an Beladung und Substratgeometrie angepasst.
Vakuumtrockner
Die Trocknung erfolgt bei reduziertem Druck. Druck, Temperatur und Zyklus werden für die Anwendung ausgelegt.
Alle Varianten sind als Standalone-Geräte ausführbar. In die Auslegung fließt die Erfahrung von exateq mit Trocknungsmodulen in automatischen Nassbänken ein.
Häufige Fragen
Welche Trocknungsverfahren bietet exateq an?
Zur Auswahl stehen Marangoni mit Hot N₂ oder Ausheben aus dem Spülbad sowie Warmluft- und Vakuumtrocknung.
Sind die Trockner als Einzelgeräte verfügbar?
Ja, alle Varianten können als Standalone-Geräte ausgeführt werden.
PERSÖNLICHE BERATUNG
Sprechen wir über Ihren Trocknungsprozess
Wir wählen mit Ihnen das passende Trocknungsverfahren für Ihre Substrate und Prozessfolge.