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Informationen zu spannenden Themen

Insights
Wafer-Carrier qCAR Ansicht 1
WAFER- & SUBSTRATHANDLING

Wafer- und Substrat-Carrier für sichere Prozessführung

Präzise Werkstückträger für Transport, nasschemische Behandlung und Trocknung.

Serien- und Sonderlösungen

Carrierkonzepte passend zu Stückzahl und Anforderung.

Prozessgerechte Entwässerung

Geometrie auf Medienabfluss und Trocknung abgestimmt.

Optimiert für das Handling

Aufnahme und Schnittstellen passend zum Transportsystem.

Werkstoffe für den Nassprozess

Materialauswahl abgestimmt auf Chemikalien und Temperatur.

Sicherer Substrathalt

Definierte Aufnahme für Transport und Prozessschritte.

ANLAGEN IM ÜBERBLICK

Carrier für Wafer und Substrate

Wafer- und Substrat-Carrier beeinflussen die sichere Aufnahme und Positionierung während Transport und Nassprozess. Geometrie, Kontaktpunkte, Entwässerung und Materialauswahl werden auf die Anwendung abgestimmt.

Zu den Wafer-Carriern qCAR
Wafer-Carrier qCAR Ansicht 1
Individuelle Auslegung nach Prozessanforderung
Geeignete Werkstoffe für die eingesetzten Medien
Konfigurierbare Prozess- und Bedienfunktionen
Berücksichtigung von Absaugung und Sicherheit
Integration in bestehende Arbeitsabläufe
Optionale Automatisierung und Überwachung
Projektbezogene Planung und Umsetzung

Für Wafer, Substrate und Komponenten

Eine Anlage – viele Möglichkeiten.

Individuelle Carrier für Silizium, Verbindungshalbleiter, Glas und weitere Substrate.

Materialien & Substrate entdecken

Passende Produkte & Systeme

Ergänzende Lösungen für Ihren Nassprozess.

Typische Anwendungen

Von Forschung und Entwicklung bis zur industriellen Fertigung.

Substrathandling Icon

Waferhandling

Sichere Aufnahme einzelner Wafer oder Batches.

Substrattransport Icon

Substrattransport

Transport und Positionierung von Substraten.

Reinigungsprozess Icon

Nassreinigung

Carrier für nasschemische Prozessschritte.

Trocknung Icon

Trocknung

Werkstückträger für Trocknungsprozesse.

Automatisierung Icon

Automatisierte Fertigung

Anbindung an automatisierte Handlingsysteme.

Carrier für unterschiedliche Anwendungen

Wafer aufnehmen

Aufnahmegeometrie und Zahnabstand richten sich nach Format, Dicke und Kontaktzonen der Wafer.

Substrate transportieren

Carrier halten Substrate beim Wechsel zwischen Prozessstationen in einer definierten Lage.

Nasschemisch reinigen und spülen

Werkstoff und offene Bauweise werden auf Prozessmedien und Flüssigkeitsaustausch abgestimmt.

Trocknen

Kontaktpunkte und Freiräume beeinflussen, wie Flüssigkeit abläuft und welche Flächen das Trocknungsmedium erreicht.

Automatisiert übergeben

Greifpunkte und Aufnahmen werden an Roboter, Stationen und Übergabepositionen angepasst.

Häufige Fragen

Welche Angaben sind für einen Carrier wichtig?

Wichtig sind Format, Dicke und Kontaktzonen der Substrate, die Prozessmedien sowie die Schnittstellen zu Becken und Handling.

Kann der Carrier automatisiert gehandhabt werden?

Greifpunkte und Übergabepositionen lassen sich für die vorgesehenen Stationen und das jeweilige Handlingsystem auslegen.

PERSÖNLICHE BERATUNG

Sprechen wir über Ihren Wafer- oder Substrat-Carrier

Wir stimmen Aufnahme, Werkstoff und Schnittstellen auf Ihren Prozess ab.